``` Histórico doble podio chileno en salto alto del Panamericano U20 - Noticia Clave
Deportes

Histórico doble podio chileno en salto alto del Panamericano U20

Histórico doble podio chileno en salto alto del Panamericano U20
  • Publishedoctubre 5, 2025

El atletismo chileno vivió una jornada memorable en el Panamericano U20 de Bogotá. Cristóbal Sahurie y Domingo Lorenzini lograron subirse al podio en la competencia de salto alto, obteniendo medallas de plata y bronce respectivamente, en una actuación que marca un antes y un después para esta disciplina en nuestro país.)

El resultado consolida el crecimiento del salto alto chileno, que ha mostrado un progreso constante en los últimos años. Ambos atletas se lucieron en la pista colombiana con un desempeño técnico y competitivo de alto nivel, situando a Chile entre las potencias emergentes del atletismo juvenil sudamericano.

“Fue una competencia muy intensa, pero nuestros atletas demostraron carácter y proyección. Este resultado no es casualidad: es fruto del trabajo técnico, la planificación y la convicción de que Chile puede competir al más alto nivel”,

señaló Mauricio Varas, entrenador nacional del Team Decatlón y especialista en saltos, tras la histórica actuación.

Varas también destacó el impacto de este logro en el desarrollo de la disciplina a nivel nacional. Según explicó, el salto alto chileno atraviesa un momento de consolidación con nuevas generaciones que vienen empujando fuerte desde las categorías formativas, lo que augura un futuro prometedor para la especialidad.

Destacados:

«El salto alto nacional vive un momento de crecimiento y consolidación.»

«Cristóbal Sahurie y Domingo Lorenzini lograron plata y bronce en salto alto del Panamericano U20 de Bogotá.»

«El doble podio representa un resultado histórico para el atletismo chileno.»

«El entrenador Mauricio Varas destacó el carácter y la proyección de los atletas.»

Créditos fotografias Instagram Mauricio Varas

Written By
Juan Esteban Galaz

Leave a Reply

Tu dirección de correo electrónico no será publicada. Los campos obligatorios están marcados con *